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潤瑪產品    RunMa's Products

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類別
品名
英文名
分子式
級別
AR
EL
MOS
CMOS
RM-A
RM-B


過氧化氫 Hydrogen Peroxide H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
鹽酸 Hydrochloric Acid HCl
硝酸 Nitric Acid HNO3
發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
氫氧化銨 Ammonium Hydroxide NH4·OH
氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH


氟化銨腐蝕液(BOE) Amnonium Fluoride Etchants NH4F·HF
鋁腐蝕液(PES) Aluminum Etchants H3PO4·HNO3·CH3COOH
鉻腐蝕液 Chrome Etchant  
銅腐蝕液 Copper Etchant  
Ito腐蝕液 Ito Etchant  
鎳銀腐蝕液 Nickel And Silver Etchant  
金腐蝕液 Gold Etchant  
壓點腐蝕液 Press Dot Etchant  
硅腐蝕液(MAE) Silicon Etchants HNO3·HF·CH3COOH
混合酸3F Mixed Acid 3F  
混合酸4F Mixed Acid 4F  

甲醇 Methanol CH3OH
乙醇 Ethanol C2H5OH
異丙醇(點擊進入詳細信息) IPA CH3CHOHCH3
丙酮 Acetone (CH3)2CO
醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
甲苯 Toluene C6H5CH3
二甲苯 Xylenes C8H10
三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
1.1.1三氯乙烷 1.1.1—Trichloroethane CH3CCl3
環已烷 Cyclohexane C6H12




去毛劑 Depilitant  
漂洗液    
剝離液 Peel Off Liquid  
光刻膠配套試劑    
正膠顯影液 Positive Develop  
負膠顯影液 Negative Develop  
硅片高純清洗劑 RMT-6  
硅酸鈉 Sodium silicate  
松油醇 Terpilenol C10H18O
根據客戶需求,可配制其它特定化學品。